<span style="\"word-wrap:" position:="" font-family:=""> 1、磁控濺射的原理是基于陰極輝光放電理論,把陰極表面磁場擴展到接近工件表面,提高了濺射原子離化率。既保留磁控濺射的細膩又增強了表面光澤度。 2、電弧等離子體蒸發源性能可靠,在優化陰極及磁場結構鍍膜時可在30A電流下工作,鍍膜膜層和基底界面產生原子擴散,又具有離子束輔助沉積的特點。
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