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充分發揮 Gemini 2 型光學系統的性能優勢
GeminiSEM 460 的 特 殊 之 處 在 于 配 備 的 Gemini 2 型光學系統主要運用了雙聚光鏡， 在獲得理想的小電子束斑同時可連續調節束 流。這使高電子束能量密度下的低束流高分 辨率成像和高束流分析得到了。此外， 您也可以在不同的成像模式之間進行無縫切 換或更改成像參數。此操作簡便快速，因為 在更改成像參數后無需進行校準，而且經調 校的掃描電鏡可以保持穩定地工作。

Gemini 2 型電子光學鏡筒讓 GeminiSEM 460 成為高束流下獲取高分辨率成像和快速 分析的理想之選。另外，它還集上一代 Gemini 光學系統的所有優勢于一身。例如， 確保了大視野范圍內的無畸變 EBSD 分析和 高分辨率成像的物鏡無漏磁設計。
因此您也能夠在不影響電子光學性能的前 提下傾斜樣品， 甚至還能輕松完成磁性樣 品成像。

Gemini 3 型鏡筒介紹
Gemini 3 型鏡筒是專為表面靈敏成像領域 的苛刻任務而設計，它確保成像在 1 kV 至 30 kV 的所有工作條件下都能達到高分 辨率。它由兩個協同工作的組件組成，即 Nano-twin 物鏡和智能自動光路調節—— 它 們組成一個全新的電子光學引擎。 BSE 的優 勢也可以為您提供良好的圖像襯度，讓您可 以從樣品中提取出盡可能多的信息。

Nano-twin 物鏡
Nano-twin 物鏡是一種在低加速電壓條件下 工作的電鏡( EM ) 物鏡。通過優化幾何結 構和靜電場及磁場分布， 獲得的信號 探測效率， 從而可以在低電壓下達到亞納 米級分辨率。具體來說， 與標準的 Gemini 物鏡相比，它在低電壓下的像差降低了 3 倍。這使得樣品上的磁場降低了 3 倍， 約 為 1mT ，并能夠進行 1kV 以下亞納米成像， 而無需將樣品浸沒在電磁場中。

全套探測系統： 根據出射能量和出射角選 擇性地探測樣品的電子
GeminiSEM 系列的全套探測系統有大量不同 的探測器可供選配。通過組合 EsB (能量選 擇背散射) 探測器、 Inlens 二次電子探測器 及 AsB (角度選擇背散射) 探測器獲取樣品 材料、表面形貌或結晶度的信息。入射電子 與樣品作用后可產生二次電子( SE ) 和背散 射電子( BSE )。從納米級樣品表面逃逸出的、 能量小于 50 eV 的二次電子可用來表征樣 品的表面形貌。這些二次電子可通過特設 計的電子束推進器向后加速進入鏡筒，并經 Gemini 物鏡投射到環形 Inlens 二次電子探測 器里。 GeminiSEM 可根據樣品的表面條件在 寬角度范圍內探測二次電子。

背散射電子產生于樣品表面之下，可提供 樣品材質成分的襯度信息。背散射電子通 常以與入射電子束成 15 度角的圓錐狀出 射， 被 Gemini 鏡筒電子束推進器吸入后射 到鏡筒內。由于二次電子( SE ) 與背散射 電子( BSE ) 具有不同的能量，它們會在電 子束推進器內產生不同軌跡。