氧氣純化氧氣凈化氧氣純化設備氧氣凈化設備

產品簡介：
處理氣量：（1-10000）Nm3/h
壓力：≤5.0Mpa
氧氣純度：≥99.999％
露點：≤-72℃
純氧含氫量：≤0.5ppm
廣泛應用于：
電子工業、半導體、光纖等需要高純氧氣的有關科研和生產部門。
高純氧氣純化設備
原料氣可以是水電解氧氣，瓶裝氧氣等，針對原料氧氣的成分不同，可定制多種凈化方案。提純過程有催化脫氫、冷卻冷凝、吸附脫水等工藝，客戶的不同需求。
技術特點
采用催化劑脫氫，效果可達含氫量≤0.5ppm。
采用分子篩，產品氧氣含濕量≤-72℃露點。
采用燒結過濾器，除塵后分子粒度≤0.1μm。
純化工作氣體壓力范圍0.2-5.0MPa，并能適用于壓力波動氣體。
安裝方便，結構緊湊，維修簡單。
PLC+觸摸屏（或工控機）全自動無人值守運行。