氬氣純化設備氬氣凈化器氬氣凈化裝置

產品簡介：
處理氣量：（1-200）Nm3/h
壓力：≤1.0Mpa
氬氣純度：≥99.999％
露點：≤-70℃
含氧量：≤1.5ppm
含氫量：≤0.5ppm
含氮量：≤4ppm
ΣCH≤1ppm
廣泛應用于：
熔硅單晶爐配套使用，激光器、濺射、半導體生產，氣相色譜儀、特殊燈泡稀有金屬加工等需要用高純氬氣的有關科研和生產部門。

高純氬氣純化設備
原料氣可以是液氬，瓶裝氬氣等，針對原料氬氣的成分不同，可定制多種凈化方案。提純過程有催化脫氧、冷卻冷凝、吸附脫水、深度凈化爐等工藝，客戶的不同需求。
技術特點
采用凈化爐脫除雜質氣體，效果可達產品氣純度99.999%。
采用分子篩，產品氧氣含濕量≤-70℃露點。
采用燒結過濾器，除塵后分子粒度≤0.1μm。
純化工作氣體壓力范圍0.2-5.0MPa，并能適用于壓力波動氣體。
原料氣采用工作流程，溫度控制安全可靠。
安裝方便，結構緊湊，維修簡單。