磁控濺射系統sputtering

NSC-4000（M）磁控濺射系統概述：帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能，可達8"旋轉平臺，可支持4個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 Torr，15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。該磁控濺射儀通過調整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

NSC-4000帶有13”鋁質腔體，4個2”的磁控管，DC直流和RF射頻電源。 在選配方面，我們提供不銹鋼腔體，500 l/s渦輪分子泵，額外的磁控管和襯底加熱功能。

NSC-4000（M）磁控濺射系統產品特點：

不銹鋼，鋁質腔體
260或500 l/s的渦輪分子泵，串接機械泵或干泵
13.56MHz，300-600W RF射頻電源以及1KW DC直流電源
晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率
帶觀察視窗的腔門易于上下載片
基于LabView軟件的PC計算機控制
帶密碼保護功能的多級訪問控制
*的安全聯鎖功能
NSC-4000（M）選配項：

不銹鋼腔體
熱蒸鍍能力
RF、DC濺射
RF或DC偏壓（1000V）
樣品臺可加熱到700°C
膜厚監測儀
基片的RF射頻等離子清洗
預真空鎖以及自動晶圓片上/下載片
NSC-4000（M）應用：

晶圓片、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質涂覆
光學以及ITO涂覆
帶高溫樣品臺和脈沖DC電源的硬涂覆
帶RF射頻等離子放電的反應濺射