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等離子去光阻機PA01/PA03B

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產品功能
快速去除晶圓上之殘留光阻，達到晶圓表面潔凈，蝕刻率同業高


產品特色
處理均勻性佳
離子能量低、不損傷基板
沒有電極及基板的污染
專利設計之特殊等離子電極
高密度等離子源
1.等離子、清潔
2.可控制低的離子能量
3.結合化學反應性及物理撞擊性
處理速度快、清潔、可靠度高
操作范圍廣
可使用多種制程氣體
設備穩定高，容易維護
可依客戶需求作更改


應用產業
殘余光阻去除
PSS 來料清潔制程

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