半導體真空磁控濺射儀器

鄭州科探儀器設備是定制物理 氣相沉積（PVD）系統的設計者和制造商，客戶服務和售后服務。擁有7年以上真空和薄膜沉積技術經驗。其研發團隊在學界科學家和工程師的支持下，高度積極地開發新設計以滿足客戶的特殊要求。

鄭科探的工程團隊設計和制造的組件符合標準。KT-Z1650PVD真空鍍膜機已通過分銷商銷往許多大學和研究中心，并得到了很好的參考和反饋。

儀器描述：

半導體真空磁控濺射儀器，能夠在非導電或導電不良的樣品上涂布金（Au），鈀（Pd），鉑（Pt）和金/鈀（Au / Pd）的薄膜。 在較短時間內即可形成具有細粒度的均勻薄膜，使樣品適用于掃描電子顯微鏡（SEM）分析。儀器結構緊湊，全自動控制，設計符合人體工程學，所得結果一致，可重復性高。


產品特點：

? 彩色觸摸屏：數據輸入簡單快速

? 通過觸摸屏中直觀檢測數據和曲線；歷史頁面可顯示歷史涂層信息。

? 可控鍍膜速率，可得到更精細的晶粒結構

? 可手動或自動，根據時間或根據厚度進行濺射

? 樣品臺更換簡單：標準旋轉樣品臺或選用行星式旋轉樣品臺。標準樣品臺高度可調、可傾斜、可旋轉；行星式旋轉樣品臺為多孔樣品帶來好的噴金效果。

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半導體真空磁控濺射儀器技術參數；

控制方式

7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

濺射電源

直流濺射電源

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1000W

輸出電壓電流

電壓≤1000V 電流≤1A

真空

機械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤5*10^-3Pa

濺射真空

≤30Pa

擋板類型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

樣品臺

可旋轉φ62 （可安裝φ50基底）

樣品臺轉速

8轉/分鐘

樣品濺射源調節距離

40-105mm

真空測量

皮拉尼真空計（已安裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa）

預留真空接口

KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口